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光束線

實驗站

研究內容

實驗技術

能量範圍

用光模式

1W1A

漫散射實驗站

晶體材料

薄膜、多層膜

納米材料

X射線共面衍射/散射

X射線掠入射衍射/散射

X射線反射率/非鏡面散射

X射線掠入射小角散射

8.05keV13.9 keV

專用、兼用

1W1B

XAFS實驗站

材料科學、納米科學、生物醫學、環境科學、化學化工、能源催化、人文考古

透射XAFS

熒光XAFS

 

4-23keV

專用、兼用

1W2A

小角散射實驗站

納米材料、介孔材料、生物大分子、高聚物等

常規小角X射線散射(SAXS)

廣角X射線散射(WAXS)

掠入射小角X射線散射(GISAXS)

時間分辨小角X射線散射(T-SAXS)

 

專用、兼用

1W2B

生物大分子實驗站

生物大分子

反常散射(MAD/SAD)

同晶置換(MIR/SIR)

分子置換(MR)

XAFS

 

專用、兼用

3W1A

生物大分子實驗站

生物大分子

反常散射(MAD/SAD

同晶置換(MIR/SIR

分子置換(MR

6-18keV

專用

3B1

光刻、LIGA實驗站

MEMS電泳芯片、金屬光柵、熱壓模具、加速度計微結構、火花電極、金屬微孔、微質譜儀金屬結構、金屬镂空模版、精密微金屬結構系統等

LIGA技術(SU8技術)

矽刻蝕技術

納米島光刻技術

光刻:0.5-1keV

LIGA2-10keV

專用

4W1A

X射線成像站

晶體材料、生物医学材料、复合材料

晶體形貌

相位襯度成像

5-20keV

專用

4W1B

X射线熒光微分析實驗站

地質礦産、生物醫學、環境科學、材料科學、人文考古、法學鑒定

XRF

微區XRF

微區XAFS

准單色光聚焦模式 8-15keV

單色光聚焦模式5-18.5keV

專用

4W2

高压實驗站

晶體結構相變

物質狀態方程

 

 

專用

4B8

真空紫外實驗站

生物大分子、發光材料

同步輻射圓二色譜(SRCD)熒光光谱和吸收谱等真空紫外光谱

120350nm

專用、兼用

4B7A

中能實驗站

探測器標定、環境科學、農業、材料科學

光學劑量標准測定

XAFS

Si(111)2050eV-5700 eV

InSb111):1750eV-3400eV

專用、兼用

4B7B

X光實驗站

探測器標定、光學原件測試、計量標准、光譜學

光學劑量標准測定

XAFS

50eV-1700eV

專用、兼用

4B9A

衍射站

材料科學、納米科學、催化能源、生物科學

X射線衍射(XRD)

X射線反射率(XRR

小角散射(SAXS)

衍射異常精細結構(DAFS

XAFS

4-15keV

專用、兼用

4B9B

光电子能谱實驗站

材料

同步輻射角積分光電子能譜(SRPES)、同步輻射角分辨光電子能譜(ARPES)、高能電子衍射(RHEED)、低能電子衍射(LEED)、常規X射線光電子能譜(XPS)等

10 -1000       eV

專用、兼用